《磁控溅射镍膜沉积速率的研究》-毕业论文（设计）.doc

想预览更多内容，点击预览全文
点击预览本文档（全文）

申明敬告：

本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己完全接受本站规则且自行承担所有风险，本站不退款、不进行额外附加服务；如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载

文档介绍

PAGE

　

磁控溅射镍膜沉积速率的研究

摘 要 镍，银白色金属，[nickel]——元素符号Ni，密度8.9g/cm3。熔点1455℃，沸点2730℃。化合价:2和3。质坚硬，具有磁性和良好的可塑性。有极好的耐腐蚀性，在空气中不易被氧化，且又耐强碱。所以性质决定镍膜具有美观干净、抗氧化、不易被腐蚀以及其他的特殊作用，因此用途广泛且及其常见。镍膜附着在其他金属上可以防止生锈、增加铁磁性和延展性。生活中，经常可以见到在服装产品中镀有镍膜的饰品，如钮扣、拉链、铆钉、金属耳环、项链、戒指等，工业上，镍膜更是大量用来参与制造不锈钢和其他抗腐蚀合金。故制备镍膜是一项常用且制备工艺繁多的课题。

本论文主要研究直流磁控溅射方法制备镍膜时，对溅射功率、气体流量、工作压强这三个工艺参数对镍膜沉积速率的的影响。通过实验结果得出：镍膜的沉积速率随溅射功率的增加而线性增加；镍膜的沉积速率随氩气流量的增加而增加，镍膜的沉积速率随工作气压的增加而先增加后减小。工作气压存在一个最佳值,当在这个气压下工作时,沉积速率将达到最大；镍膜的沉积速率随着氩气流量的增大而增大。

关键词；磁控溅射；薄膜；Ni；沉积速率 PAGE 8 PAGE ii

Research on Deposition Rate of Nickel Films Based on the DC Magnetron Sputtering

Abstract

Nickel, silver-white metal, [nickel] - element symbol Ni, the density of 8.9g/cm3. Melting point 1455 ℃, boiling point 2730 ℃. Valence: 2 and 3. Quality hard, with magnetic properties and good plasti

最近下载